Robotechnik Europe OPTIwet ST30 Linia do mokrej obróbki waflów - Image 1
1 / 8

Robotechnik Europe OPTIwet ST30 Linia do mokrej obróbki waflów

Model
OPTIwet ST30
Typ
Linia do mokrej obróbki waflów
Kategoria
Inżynieria procesowa i zakłady chemiczne
Podkategoria
Inne maszyny i urządzenia
Cena: Na żądanie

Specyfikacje

Overview

System for wet chemical processing of wafers up to 12in, substrates up to X/Y 9in/9in, stand-alone housing with process modules

Process Chamber

Material
PP (Polypropylene)
Max wafer size
12 inch
Max substrate size X/Y
9in/9in
Programmable media arms
2

Rotation Specifications

Rotational speed
1-4000 rpm
Acceleration ramp
1-3000 rpm
Spin time
1-999 seconds

Exhaust System

Process bowl exhaust
2x DN110, approx. 200m³/h each
Chamber exhaust
2x DN110, approx. 200m³/h each
Housing exhaust
1x DN110, approx. 200m³/h
Control exhaust
1x DN110, approx. 200m³/h

Gas Supply

CDA (Compressed dry air)
8 ± 2 bar
Vacuum
-0.8 ± 0.2 bar
Nitrogen
4.0 ± 0.5 bar

Drainage and Waste

Media drains
3
Waste box capacity
2 concentrate wastes

Accessories

Reagent box
With pressure vessel
Thermostat baths
4 Julabo units

Czy jesteś zainteresowany tą maszyną?

Skontaktuj się ze sprzedawcą, aby dowiedzieć się więcej, omówić cenę lub umówić się na oględziny.

Skontaktuj się ze sprzedawcą

Ten sprzedawca odpowiada wyłącznie na wiadomości w języku angielskim. Twoja wiadomość zostanie wysłana w języku angielskim.

Opcjonalnie – pomaga nam się doskonalić (dane nie są przekazywane sprzedawcom)

Znasz kogoś, kto mógłby być zainteresowany?

Udostępnij tę maszynę współpracownikom lub znajomym

Udostępnij tę maszynę

Opis AI

Beta

Możliwości

The Robotechnik Europe OPTIwet ST30 is a standalone wet chemical processing system designed for precision cleaning, etching, and coating of semiconductor wafers up to 12 inches and substrates up to 9x9 inches. It features two programmable media arms with variable rotation speeds (1-4000 rpm) and customizable spin cycles (1-999 seconds), allowing controlled chemical processing with exhaust management through dual DN110 process bowls. The system includes a polypropylene process chamber, integrated waste management for two concentrate streams, and a pressurized reagent box for automated chemical dispensing.

Branże i zastosowania

This equipment is essential for semiconductor manufacturers, research laboratories, MEMS producers, and electronics manufacturers who need reliable wet processing capabilities. It's commonly used for wafer cleaning before critical manufacturing steps, photoresist removal, metal etching, and substrate preparation. The stand-alone design makes it suitable for cleanroom and production environments where space and process isolation are important.

Na co zwrócić uwagę przy zakupie

When evaluating a used unit, verify the condition of the PP chamber for chemical corrosion or cracks, inspect both media arm actuators for smooth operation, and request maintenance records documenting calibration of rotation speeds and pressure/vacuum systems. Check that all exhaust and drain connections are intact and that the waste management system has been properly maintained. Confirm proper functioning of the programmable controls and ask about chemical compatibility history to ensure it matches your intended applications.

Ten opis został wygenerowany przez AI i ma charakter wyłącznie ogólnego przewodnika. Podobnie jak w przypadku wszystkich treści generowanych przez AI, mogą wystąpić nieścisłości. Przed podjęciem decyzji o zakupie zweryfikuj wszystkie szczegóły bezpośrednio ze sprzedawcą.

Podobne maszyny

Inne maszyny w kategorii Other machinery and plants