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OPTIwet ST30
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OPTIwet ST30
Wafer-Nassbehandlungsanlage
Auf Anfrage
vor 11 Monaten
Auf Anfrage
Robotechnik Europe
OPTIwet ST30
Wafer-Nassbehandlungsanlage
Anlage zur nasschemischen Behandlung von Wafern bis 12in, Substraten bis X/Y 9in/9in, Stand-Alone-Gehäuse, Prozessmodule, PP-Prozesskammer, 2 prog. Medienarme, Drehzahl 1-4000U/min, Beschleunigungsrampe 1-3000U/min, Spin-Zeit 1-999s, Abluft Prozessbo...
vor 11 Monaten
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